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    社會新聞
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    遇到瓶頸了:Intel、三星7nm工藝受阻

    類別:社會新聞發布人:聯迪發布時間:2017-03-02

    3月2日消息 雖然臺積電號稱自己很快將進入7nm工藝,甚至連5nm和3nm的工藝都已經在設計驗證了,但是凡事還是要擺事實講道理。作為半導體行業領頭羊的三星和Intel均表示,7nm的阻礙前所未有的大,所需要的EUV(極紫外光刻)光刻機商用問題十分嚴重。

    遇到瓶頸了:Intel、三星7nm工藝受阻

    昨天除了大家熟悉的GDC Nvidia大會,還有一場面向專業人員的國際光電工程學會(SPIE)年度會議,在會議上,包括Intel和三星的頂尖專家均表示目前EUV技術推進速度十分地緩慢。

    這兩家行業巨頭,三星表示去年生產的首款EUV光罩目前已經趨近完美,而Intel早在1992年就開始研究起EUV,終于在去年成功投入生產并商用,不過Intel同樣表示EUV技術還沒有完全成熟,自己仍在研究。

    作為光刻機的霸主,荷蘭ASML公司的NXE 3350B成為了未來EUV技術的主力,據悉一臺光刻機的售價達到了6億人民幣,比F35戰斗機還貴。

    但是ASML的專家卻稱,目前NXE 3350B的問題還是頗多,即使能夠正常運行超過75%的時間,但是EUV光罩問題還是讓商用難以成為現實。看樣子不是Intel不想進步,的確半導體行業需要一個革命性的改變了。

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